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顯微分光膜厚儀 OPTM series

顯微分光膜厚儀 OPTM series

●非接觸 · 非破壞 · 顯微、對(duì)焦、測量1秒完成 ●OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀,測試膜厚、折射率n、消光系數(shù)k、絕對(duì)反射率的新型高精度、高性價(jià)比的分光膜厚儀。適用于各種可透光膜層的測試,并有獨(dú)家專利可針對(duì)透明基板去除背面反射,從而達(dá)到“真實(shí)反射率、膜厚”測試的目的。此外,軟件操作簡單、使用方便且簡化了復(fù)雜的建模流程。...

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產(chǎn)品介紹
  • 產(chǎn)品特色
  • 量測項(xiàng)目
  • 應(yīng)用范圍
  • 規(guī)格式樣
  • OPTM 選型
  • 量測案例

產(chǎn)品特色

  動(dòng)畫




● 非接觸、非破壞式,量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)

    ● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式

    ● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的絕對(duì)反射率,可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

    ● 單點(diǎn)對(duì)焦加量測在1秒內(nèi)完成

    ● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)(紫外 ~ 近紅外)

● 獨(dú)立測試頭對(duì)應(yīng)各種inline定制化需求

● 最小對(duì)應(yīng)spot約3μm

● 獨(dú)家專利可針對(duì)超薄膜解析nk


量測項(xiàng)目

●絕對(duì)反射率分析

●多層膜解析(50層)

●光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))  

膜或者玻璃等透明基板樣品,受基板內(nèi)部反射的影響,無法正確測量。OPTM系列使用物鏡,可以物理去除內(nèi)部反射,即使是透明基板也可以實(shí)現(xiàn)高精度測量。此外,對(duì)具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品,也可完全不受其影響,單獨(dú)測量上面的膜。

(專利編號(hào)    第 5172203 號(hào))
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應(yīng)用范圍

● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體:硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料

● FPD:LCD、TFT、OLED(有機(jī)EL)

● 資料儲(chǔ)存:DVD、磁頭薄膜、磁性材料

● 光學(xué)材料:濾光片、抗反射膜

● 平面顯示器:液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

● 薄膜:AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它:建筑用材料、膠水、DLC等


規(guī)格式樣

(自動(dòng)XY平臺(tái)型)

             OPTM-A1      OPTM-A2      OPTM-A3
波長范圍      230 ~ 800 nm      360 ~ 1100 nm      900 ~ 1600 nm
膜厚范圍      1nm ~ 35μm      7nm ~ 49μm      16nm ~ 92μm
測定時(shí)間      1秒 / 1點(diǎn)以內(nèi)
光徑大小      10μm (最小約3μm)
感光元件      CCD      InGaAs
光源規(guī)格      氘燈 鹵素?zé)? 鹵素?zé)?/td>
尺寸      556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動(dòng)XY平臺(tái)型的主體部分)
重量66kg(自動(dòng)XY平臺(tái)型的主體部分)


OPTM 選型

2.png自動(dòng)XY平臺(tái)型

3.png固定框架型

4.png嵌入頭型


量測案例

半導(dǎo)體行業(yè) - SiO2、SiN膜厚測定案例

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半導(dǎo)體工藝中,SiO2用作絕緣膜,而SiN用作比SiO2更高介電常數(shù)的絕緣膜,或是用作CMP去除SiO2時(shí)的阻斷保護(hù),之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時(shí),為了精確的工藝控制,有必要測量這些膜厚度。


FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測定


彩色濾光片薄膜的制程中,一般將彩色光阻涂布在整個(gè)玻璃表面,通過光刻進(jìn)行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是導(dǎo)致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因,因此對(duì)彩色光阻的膜厚管理非常重要。


FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造



ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料,制膜后需經(jīng)過退火處理(熱處理)提升導(dǎo)電性和透光性。此時(shí),氧狀態(tài)和結(jié)晶性發(fā)生變化,使得膜厚產(chǎn)生階段性的傾斜變化。在光學(xué)上不能看作是構(gòu)成均一的單層膜。

對(duì)這樣的ITO用傾斜模式,由上部界面和下部界面的nk值,對(duì)傾斜程度進(jìn)行測量。


半導(dǎo)體行業(yè) – 使用界面系數(shù)測定粗糙基板上的膜厚


如果基板表面非鏡面且粗糙度大,則由于散射,測量光降低且測量的反射率低于實(shí)際值。

通過使用界面系數(shù),因?yàn)榭紤]到了基板表面上的反射率的降低,可以測量出基板上薄膜的膜厚值。


DLC涂層行業(yè) – 各種用途DLC涂層厚度的測量


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DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征,被廣泛用于各種用途。

采用顯微光學(xué)系統(tǒng),可以測量有形狀的樣品。此外,監(jiān)視器一邊確認(rèn)檢查測量位置一邊進(jìn)行測量的方式,可以用于分析異常原因。




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