- 產(chǎn)品信息
- 原理
- 規(guī)格
- 設備配置
產(chǎn)品信息
特殊長度
●支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度
●使用反射光譜分析薄膜厚度
●實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低
●簡單的條件設置和測量操作!任何人都可以輕松測量薄膜厚度
●通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。
●非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計數(shù))。
測量項目
絕對反射率測量
膜厚分析(10層)
光學常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計數(shù))
測量對象
功能膜、塑料
透明導電膜(ITO、銀納米線)、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、膠粘劑、保護膜、硬涂層、防指紋, 等等。
半導體
化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等。
表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。
光學材料
濾光片、增透膜等。
FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機膜、封裝材料)等
其他
HDD、磁帶、建筑材料等
原理
測量原理
大冢電子利用光學干涉儀和自有的高精度分光光度計,實現(xiàn)非接觸、無損、高速、高精度的薄膜厚度測量。光學干涉測量法是一種使用分光光度計的光學系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學膜厚的方法,如圖 2 所示。以涂在金屬基板上的薄膜為例,如圖1所示,從目標樣品上方入射的光被薄膜表面(R1)反射。此外,穿過薄膜的光在基板(金屬)和薄膜界面(R2)處被反射。測量此時由于光程差引起的相移所引起的光學干涉現(xiàn)象,并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學干涉法。分析方法有四種:峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法和優(yōu)化法。
規(guī)格
規(guī)格
類型 | 薄膜型 | 標準型 |
測量波長范圍 | 300-800nm | 450-780nm |
測量膜厚范圍 (SiO 2換算) | 3nm-35μm | 10nm-35μm |
光斑直徑 | φ3mm / φ1.2mm | |
樣本量 | φ200×5(高)mm | |
測量時間 | 0.1-10s內(nèi) | |
電源 | AC100V ± 10% 300VA | |
尺寸、重量 | 280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米,24 公斤 | |
其他 | 參考板,配方創(chuàng)建服務 |
設備配置
光學家譜
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